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Ofen-Plasma der Vakuumröhre-1200℃ erhöhte LPCVD-Ofen mit Vakuumpumpe

Ofen-Plasma der Vakuumröhre-1200℃ erhöhte LPCVD-Ofen mit Vakuumpumpe

    • 1200℃ Vacuum Tube Furnace Plasma Enhanced LPCVD Furnace With Vacuum Pump
  • 1200℃ Vacuum Tube Furnace Plasma Enhanced LPCVD Furnace With Vacuum Pump

    Produktdetails:

    Herkunftsort: China
    Markenname: Brother Furnace
    Zertifizierung: CE
    Modellnummer: BR-PECVD

    Zahlung und Versand AGB:

    Min Bestellmenge: 1 Satz
    Preis: Negotiation
    Verpackung Informationen: Starke Holzkiste für globales Verschiffen
    Lieferzeit: 7-21 Werktage
    Zahlungsbedingungen: L / C, T / T, Western Union
    Versorgungsmaterial-Fähigkeit: 200 Sätze pro Monat
    Kontakt
    Ausführliche Produkt-Beschreibung
    Maximale Temperatur: 1200℃ Normales Vakuum: -0.1Mpa
    Maximales Vakuum: Molekulare Pumpe der Konfiguration, PA des Vakuum7x10-4 (optional) Flansch: Dichtungsflansch des Edelstahls 304
    Übertemperaturschutz: automatisches macht--weg, wenn die Temperatur den zulässigen Sollwert übersteigt Sicherheitsschutz: Automatisch Ausschalten, wenn der Ofenkörper leckt
    Ofenstruktur: Doppelschichtstahldoppelventilator, Oberflächentemperatur unter 50℃ MAX-HEIZQUOTE: 20°C /min
    Temperaturgenauigkeit: ±1℃ Temperatureinheitlichkeit: ±5℃
    Temperaturüberwachung: 50 Segmente programmierbar und Selbststeuerung Ofenrohr: Quarzrohr
    Anwendung: Plasma erhöhte LPCVD
    Markieren:

    rotating tube furnace

    ,

    quartz tube furnace

    Plasma 1200℃ erhöhte LPCVD-Ofen mit Vakuumpumpe
     
    Intelligente LPCVD-Einleitung:
    PECVD-System ist entworfen, um die Reaktionstemperatur traditionellen CVD zu verringern. Es installierte Rf-Induktionsausrüstung vor traditionellem CVD, um das Reagieren des Gases zu ionisieren, also wird das Plasma erzeugt. Die hohe Tätigkeit des Plasmas ist Reaktion liegt beschleunigtes an der hohen Tätigkeit des Plasmas. So wird dieses System PECVD genannt.
    Dieses Modell ist das neueste Produkt, synthetisierte es die Vorteile der meisten Systeme des Rohrs PECVD und fügte eine vorheizende Zone in der Front des PECVD-Systems hinzu. Tests zeigten, dass die Absetzungsgeschwindigkeit schneller ist, die Filmqualität ist besser, sind Löcher kleiner und werden nicht knacken. Vollautomatisches intelligentes Kontrollsystem AISO wird unabhängig von unserer Firma entworfen, zu benützen ist bequemer und seine Funktion ist stärker.
    Breiter Einsatzbereich: Metallschicht-, keramischer Film, zusammengesetzter Film, das ununterbrochene Wachstum von verschiedenen Filmen. Einfach, Funktion zu erhöhen, kann Plasmareinigungsätzung und andere Funktionen erweitern
     
     
    Hauptmerkmal:

    • Hohe Filmabsetzungsrate: Die Rf-Glühentechnologie, die Absetzungsrate des Filmes groß erhöhend, die Absetzungsrate kann 10Å/S erreichen
       
    • Hohe Bereichseinheitlichkeit: Moderne Mehrpunkt-Fütterungstechnologie Rfs, spezielle Gaswegverteilung und Heiztechnologie, etc., machen die Filmeinheitlichkeits-Indexreichweite 8%
       
    • Hohe Übereinstimmung: unter Verwendung des modernen Konzeptes des Entwurfes der Halbleiterindustrie, ist die Abweichung zwischen den Substraten von einer Absetzung kleiner als 2%
       
    • Hohe Prozessstabilität: In hohem Grade stabile Ausrüstung stellt einen ununterbrochenen und stabilen Prozess sicher


     
    Standard-Reserven:

    • Verstopfung von PC des Rohrs 4
    • PC des Ofenrohrs 1
    • PC der Vakuumpumpe 1
    • Sätze des Hohlraumversiegelungsflansches 2
    • PC des Vakuummessgeräts 1
    • Gaslieferung u. Vakuumpumpe
    • Rf-Plasmaausrüstung

     
    Optionale Reserven:
     

    • Flansch der schnellen Freigabe, Dreiwegeflansch
    • 7 Notengeröll des Zoll HD

     
     
     
    Rohr-Ofenstandardspezifikation des Laborpecvd aufgeteilte:
     

    1. Heizsystem
    Max.temperature 1200℃ (1 Stunde)
    Betriebstemperatur ≤1100℃
    Kammergröße Φ100*1650mm (Rohr diamater ist kundengerecht)
    Kammermaterial Tonerde-Holzfaserplatte des hohen Reinheitsgrades
    Thermoelement K-Art
    Temperatureaccuracy ±1℃
    Temperaturüberwachung

    ● 50 programmierbare Segmente zur genauen Steuerung der Heizquote, der abkühlenden Rate und der Verweilzeit.

    ● errichtet in der PID-Selbst-Melodiefunktion mit Überhitzungsu. gebrochenem Thermoelement gebrochenem Schutz.

    Automatisches Kontrollsystem ● PLC durch PC-Prüfer nach innen.

    ● das Temperaturüberwachungssystem, System schiebend (Zeit und Abstand) könnte durch Programm gesteuert werden.

    Heizungslänge 440mm
    Konstante Heizungslänge 200mm
    Heizelement Widerstanddraht
    Stromversorgung Einphasiges, 220V, 50Hz
    Nennleistung 9kW
    2. Rf-Plasma-Quelle
    Rf-Frequenz 13,56 MHz±0.005%
    Spitzenleistung 500W
    Maximal reflektieren Sie Energie 500W
    Rf-Ausgabeschnittstelle 50 Ω, N-artig, weiblich
    Energiestabilität ±0.1%
    Harmonische Komponente ≤-50dbc
    Versorgungsspannung/Frequenz Einphasiges AC220V 50/60HZ
    Ganze Leistungsfähigkeit >=70%
    Energiefaktor >=90%
    Kühlverfahren Druckluft
    3. Kontrollsystem mit drei Präzisionsmassenströmungsmessern
    Außenmaß 600x600x650mm
    Verbindungsstückart Gelenk Swagelok SS
    Standardstrecke (N2) 0~100sccm, 0~200sccm oder kundengerechtes
    Genauigkeit ±1.5%
    Linear ±0.5~1.5%
    Wiederholbarkeit ±0.2%
    Antwortzeit

    Gaseigentum: Sek 1~4;
    Elektrisches Eigentum: Sek 10

    Druckstrecke 0.1~0.5 MPa
    Max.pressure 3MPa
    Schnittstelle Φ6,1/4“
    Anzeige Anzeige mit 4 Stellen
    Umgebende Temperatur Gas des hohen Reinheitsgrades 5~45
    Manometer - 0.1~0.15 MPa, 0,01 MPa/Einheit
    Absperrventil Φ6
    Polieren Sie SS-Rohr Φ6
    Grobvakuumsystem eingeschlossen
     

     
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    • Geben Sie Entwurf für speziellen Ofen frei
    • Geben Sie technische Unterstützung während der Lebenszeit frei
    • Freies Beispieltest

     
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